Dissertation (Metadaten)
Titel:Entwicklung, Aufbau und Automatisierung einer UHV-Aufdampfanlage sowie Untersuchungen zur Morphologie und Reaktivität dünner Schichten
 
Autor:Kim Lukoschus
 
URN:NBN:urn:nbn:de:gbv:8-diss-3316
 
Fakultät:Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
DDC Sachgebiet:670 Industrielle Fertigung
 
Datum der mdl. Prüfung:18.07.2000
 
Referent(in):Prof. Dr. W. Bensch
Korreferent(en) Korreferentin:Prof. Dr. F. Tuczek
 
Beschreibung:Im Rahmen dieser Arbeit wurde eine UHV-Aufdampfanlage entwickelt, gebaut und automatisiert. Es können unabhängig voneinander bis zu fünf verschiedene Materialien verdampft werden. Dazu stehen für die niedrigschmelzenden Elemente zwei Knudsenzellen zur Verfügung, die höherschmelzenden Elemente werden mittels Elektronenstrahlverdampfer abgeschieden. Durch die gleichzeitige Bedampfung von mehreren Substraten wird sichergestellt, daß die z. T. destruktiven Untersuchungen an identischen Präparaten durchgeführt werden können. Die Substrate können bei der Bedampfung entweder bis auf 100 Kelvin abgekühlt oder bis 800 Kelvin geheizt werden. Ein speziell für diese Aufdampfanlage entwickeltes Programm ermöglicht die fortlaufende zentrale Erfassung und Archivierung aller verfügbaren Prozeßdaten wie z.B. Aufdampfraten, Kammerdrücke und Shutterpositionen. Zusätzlich kann mit diesem Programm der Beschichtungsprozeß durch die selbst entwickelte Motorisierung der verschiedenen Verdampferzellen-Shutter automatisch gesteuert werden. Es wurden unterschiedliche abgeschiedene Filme mit den Methoden Rasterkraftmikroskopie, Energiedispersive Röntgenfluorenszenzanalyse, Röntgenreflektometrie, Röntgenbeugung und Dynamischer Differenz Kalometrie hinsichtlich Morphologie und Reaktivität untersucht.
 
Schlagworte:Aufdampfen ; Hochvakuumtechnik ; Geräteentwicklung ; Chrom ; Tellur ; Aufdampfschicht ; Mehrschichtsystem ; Chromverbindungen ; Tellurverbindungen ; Chromchalkogenide
 
Dokumente:
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